1. 设备特点

        1. 高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，**真空可达10-4Pa；
        2. 可配合压强控制仪控制气体压力，实现负压的精准控制；
        3. 数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；
        4. 每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性；
        5. 采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；
        6. 管路采用世界**Swagelok卡套连接，不漏气；
        7. 超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠；
        8. PECVD借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，更容易发生反应。

1. 设备参数